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机译:化学机械抛光(CMP)浆料的分散体稳定性与表面活性剂浓度和磨料粒径的关系
机译:荧光纳米探针在CMP浆料中纳米磨料的新型粒度测定方法
机译:扫描迁移率粒度仪测量CMP浆料的磨料粒度分布
机译:CMP浆料磨料颗粒的有效分散
机译:CMP过程中的磨料颗粒轨迹和材料去除不均匀性以及CMP浆料的过滤特性-模拟和实验研究。
机译:功能化的纳米粒子的分散泥浆流中的天然气水合物
机译:基于下一代金属线制造的研磨剂评价Al CMP浆料