IBMT. J. Watson Research Center, 1101 Kitchawan Road, Yorktown Heights, NY 10598, USA;
机译:在3D集成应用中采用密封设计制造纳米级Cu焊盘
机译:基于热压缩键合和虚拟Cu / Ni / SnAg微凸点的三维集成电路封装基于可靠性的设计指南
机译:3D集成电路中Cu-Sn-Cu微焊盘电迁移失败的实验研究
机译:改进的Cu焊盘的可制造性以及3D集成电路和封装中的密封设计实现
机译:具有用于焊盘下面的电路的铝-二氧化硅互连的集成电路接合焊盘的可靠性增强。
机译:高度绝缘大肠杆菌基因组着陆垫中稳定遗传电路的精度设计
机译:晶片级精细间距Cu-Cu键合3-D堆叠集成电路