Institute for Chemical Technology of Inorganic Materials, TU-Vienna, Getreidemarkt 9/161, A-1060 Vienna, Austria;
c-BN; physical vapor deposition (PVD); chemical vapor deposition (CVD);
机译:低压c-BN沉积-可以进行CVD工艺吗?
机译:金刚石与c-BN低压CVD合成的比较
机译:在低压CVD设备中处理两个晶圆的半导体晶圆上的温度分布和沉积速率
机译:低压C-BN沉积 - 是CVD工艺吗?
机译:低压沉积和蚀刻过程的建模和仿真。
机译:金属有机化学气相沉积(MOCVD)异质外延Pr0.7Ca0.3MnO3薄膜的合成:工艺条件对结构/形态和功能特性的影响
机译:通过微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)沉积C-BN薄膜碳化物插入工具