Inst. of Semicond. Phys., SB RAS, Novosibirsk, Russia;
III-V semiconductors; X-ray photoelectron spectra; annealing; indium compounds; organic compounds; plasma materials processing; sputter etching; stoichiometry; surface composition; ICP; InAs; XPS; deep etching; frequency 13.56 MHz; gas phase; hydrocarbon; hydrochloric acid; isopropanol; planar inductively coupled plasma; plasmachemical etching; surface stoichiometry; temperature 300 C; vacuum annealing; Etching; Plasma;
机译:平面电感耦合等离子体中InAs的蚀刻和氧化
机译:通过等离子体表面模拟和实验研究在硅上的Cl-2 / O-2 / Ar电感耦合等离子体的蚀刻和沉积过程
机译:BCl_3 / Cl_2 / Ar中InAs / InSb的室温感应耦合等离子体刻蚀
机译:XPS在平面电感耦合等离子体中蚀刻INAS的研究
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:高密度平面电感耦合BCL3 / SF6PLASMA中的Algaas和Ingap半导体选择性蚀刻GaAs和InGap半导体的研究
机译:在BCl(3)基化学中的III-V半导体的电感耦合等离子体蚀刻:第二部分:Inp,InGaas,InGaasp,Inas和allnas;应用表面科学