硼掺杂金刚石膜的制备及电化学性能研究

摘要

采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,以氧化硼-乙醇溶液作为硼源,成功制备出硼掺杂金刚石膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(Laser Raman spectroscopy)、电化学工作站对其表面形貌、晶体结构、薄膜质量、电化学性能进行了系统的研究.实验结果表明:随着硼元素含量的增加,金刚石膜的晶体颗粒尺寸先减小后增大,电势窗口大小由3.1V降至2.6V,阳极电流密度由0.0227mA/·cm-1降至0.0119mA/·cm-1,但对背景电流及电化学可逆性几乎不影响.