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一种硼氮共掺杂金刚石纳米片/掺硼金刚石薄膜及其制备方法和应用

摘要

本发明提供了一种硼氮共掺杂金刚石纳米片/掺硼金刚石薄膜及其制备方法和应用,所述制备方法包括以下步骤:步骤1,对衬底进行打磨、清洗、干燥,置于金刚石微纳粉末的悬浊液中,使金刚石微纳颗粒在衬底表面形核;步骤2,将经过步骤1处理的衬底置于密闭的反应腔室,甲烷、硼源及氢气构成的混合气氛,达到预定温度时,反应室中气体分解或放电,同时在电磁场作用下,在基底上生长出掺硼金刚石薄膜;步骤3,以甲烷为原材料,同时向反应腔室内引入氮源和硼源,掺硼金刚石薄膜为基底外延生长硼氮共掺杂金刚石纳米片。本发明的硼氮共掺杂金刚石纳米片/掺硼金刚石薄膜在高功率密度和超快速充放电上表现出优异的性能。

著录项

  • 公开/公告号CN113445022A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津理工大学;

    申请/专利号CN202110722632.9

  • 发明设计人 李翠平;聂万里;李明吉;李红姬;

    申请日2021-06-29

  • 分类号C23C16/22(20060101);C23C16/28(20060101);C23C16/44(20060101);

  • 代理机构12251 天津创智睿诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人李薇

  • 地址 300384 天津市西青区宾水西道391号

  • 入库时间 2023-06-19 12:45:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-25

    授权

    发明专利权授予

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