大尺寸场发射显示器件封接技术及排气工艺的研究

摘要

近年来，场发射显示器件已经逐渐成为平板显示器中的研究热点。关于二十五寸场发射显示器 件的封接技术主要包括:低熔点玻璃材料的调制，涂覆，加热以及阴极板阳极板的预处理等等。而排气工艺一般包括场发射显示器件内部的真空获得和维持，这也是目前场发射显示器件研究中的主要困难之 一。本文在实验室现有条件允许下，对现有的场发射显示器件封接技术及排气工艺进行了优化处理，以期获得场发射显示器件内部持久的高真空度，使显示器件能够高稳定长寿命地工作。