,离子流能量20-200eV,并能激活反应气体O<,2>及蒸发原子,用GIS进行的离子体离子辅助镀膜这一技术现正用于生产高质量的光学薄膜。'/>
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尤大伟; 李晓谦; 王怡德; 林永昌;
中国电工技术学会;
中国电子学会;
中国电机工程学会;
等离子体; 离子辅助镀膜; 无栅等离子源; 光学镀膜;
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