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走向光学工业应用的辅助镀膜霍尔等离子体源

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摘要

论述了霍尔等离子体源的工作原理,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布.本设计采用永久磁铁并利用极靴产生发散磁场,及沿轴向有较大梯度的磁场,还给出了束流均匀区实测结果及工业应用初步结果.

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来源
《核技术》|2002年第9期|679-683|共5页
作者
尤大伟; 李安杰; 江建国; 武建军; 黄小刚;
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作者单位

中国科学院空间中心,北京,100080;

中国科学院空间中心,北京,100080;

北京市光电研究所,北京,100010;

中国科学院空间中心,北京,100080;

中国科学院空间中心,北京,100080;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TL501.5;
关键词
光学镀膜; 离子束辅助镀膜; 等离子体加速;
入库时间 2023-07-25 14:47:22

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