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杨占坤; 徐嘉东; 李建明; 张秀兰;
中国电子学会;
InP; 氦离子注入; C-V测试; 缺陷; 半导体材料;
机译:注入铁的InP的离子束分析和替代Fe性能的电特性
机译:氦离子注入下F / M钢中空位型缺陷的3-21正电子ni没研究
机译:用氦离子显微镜通过不同的氦离子注入氦离子显微镜在细胞背景上的碳纳米管对比度
机译:InP中注入高能Si和Be离子,InGaAs中注入低能过渡金属离子
机译:氦离子注入硅器件的光电特性及应用
机译:纳米压痕和透射电镜研究氦离子注入EUROFER97和EU-ODS EUROFER的辐照后退火后的空腔命运
机译:氦离子注入后钒 - 钛 - 铬 - 硅型合金的低温延展性损失和微观结构演化
机译:Inp中的离子注入n型和p型层。
机译:扁平型等离子诊断设备件型等离子诊断设备,配备平面等离子诊断设备静电卡盘嵌入平面等离子体诊断系统中。 本研究是一种材料创新计划(NRF)材料创新计划(1711120490 / 2020M34A3106004),由科学和技术信息和通信部门提供支持。委托为51%)韩国国家科技研究协会(NST)研发 同盟计划(1711062007 / CAP-17-02-NFRI-01)由Kriss支持。
机译:Inp离子注入导电层的形成方法
机译:Inp离子注入导电层的形成
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