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崔利杰; 王保强; 朱战平;
中国电子学会;
中国有色金属学会;
分子束外延生长; MM-HEMT材料; 导电结构; 振荡测试; GaAs衬底;
机译:多层X射线分析IN0.52AL0.48AS / IN0.53GA0.47AS / IN0.52AL0.48AS HEMT异质结构,含有INAS NANOINSERT
机译:具有InAs和GaAs插入物不同组合的In0.52Al0.48As / In0.53Ga0.47As / In0.52Al0.48As / InP HEMT纳米异质结构的结构和电物理性质
机译:In0.52Al0.48As / In0.53Ga0.47As / In0.52Al0.48As异质结构中准1D和准2D系统中的功率损耗测量
机译:In0.53Ga0.47As / In0.52Al0.48As多量子阱中的非抛物化价子带的透射光谱
机译:极性对氨MBE生长的氮化镓的生长和材料性能的影响。
机译:InGaAs / InAlAs / InP量子级联激光器的In0.52Al0.48As波导层MBE生长条件的优化
机译:MBE的IN0.52AL0.48AS和IN0.53GA0.47AS的增长
机译:分子束 - 外延生长条件对In0.52al0.48as / In0.53Ga0.47as共振隧穿二极管电学特性的影响
机译:半导体纳米异质结构In0.52Al0.48As / InXGa1-XAs C复合有源区In0.53Ga0.47As / InAs / In0.53Ga0.47As / InAs / In0.53Ga0.47As C两次插入InAs
机译:MBE生长的p型氮化物半导体材料
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