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林秀如; 陈瑞琴; 蔡文达;
中国腐蚀与防护学会;
铜; 电化学行为; 双氧水; 化学-机械抛光; 电解液;
机译:电化学抛光中KNO_3电解液中铜的电压依赖性电化学去除
机译:铜的电化学机械抛光和玻璃的化学机械抛光
机译:超大型系统集成(ULSI)中铜化学机械抛光(CMP)和CMP后清洗的综述-电化学角度
机译:电化学机械抛光中机械抛光对铜的影响
机译:铜化学机械抛光的一些化学和电化学方面。
机译:萃取处理废旧电解液电化学制备聚苯胺纳米线及其电化学性能。
机译:硫酸电解液中铜的电化学还原
机译:废EBR-II驱动燃料在熔盐电解液中的电化学溶解
机译:使用固定的磨料抛光垫和专门用于化学机械抛光固定的磨料的铜层化学机械抛光溶液的铜化学机械抛光工艺
机译:--使用固定的磨料抛光垫和专门为固定的磨料垫进行化学机械抛光而采用的铜层化学机械抛光溶液进行的铜化学机械抛光工艺
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