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硅基AlN薄膜的成分与表面分析

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采用直流磁控反应溅射法制备了具有较好(002)择优取向性的硅基AlN薄膜.用俄歇电子能谱(AES)、扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的组成成分和表面形貌进行了分析.

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来源
《第七届"测量与控制在资源节约、环境保护中的应用"学术会议》|2003年|278-279|共2页
会议地点沈阳
作者
于毅; 赵宏锦; 任天令; 刘理天;
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作者单位

中国仪器仪表学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类薄膜技术;
关键词
氮化铝薄膜; 表面形貌; 薄膜成分; 磁控反应溅射;

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