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赵青南; 赵修建; 熊锐; 李佐宜;
中国稀土学会;
镝铁钴; 磁光记录薄膜; 表面成分; AIN保护层;
机译:溅射气压和氮浓度对溅射AlN薄膜晶体取向和残余应力的影响
机译:通过XPS研究的氩聚类离子束溅射铅硅酸盐玻璃表面
机译:氧和氩对AlN溅射薄膜晶体质量和压电响应的影响
机译:反应溅射在Dyfeco磁光介质上制备的ALN覆盖层的影响
机译:用于蓝光磁光记录的铬合金锰铋薄膜。
机译:溅射AlN:Er薄膜的基底温度相关特性用于Al / AlN多层涂层健康的原位发光传感
机译:磁光记录薄膜介质的磁,磁光和磁传输研究。
机译:用于mEms应用的低应力alN压电薄膜的直流磁控反应溅射
机译:用于记录设备的磁光记录头,该磁光记录头包括层压芯,该层压芯具有在其间夹有绝缘膜的多个磁性薄膜
机译:溅射包含Co或Co合金相中分散的氧化物相,Co或合金相和氧化物相制成的磁薄膜的溅射靶,以及使用所述薄膜进行磁记录
机译:产品磁光记录介质,例如磁盘-使用由至少两种或更多种类型的薄膜形成的多层记录膜,该薄膜在溅射系统中交替多次堆叠在基板上
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