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徐彧; 李艳秋;
中国光学学会;
浙江省光学会;
浙江大学;
中心遮拦; 光刻; 向量衍射; 相移掩模;
机译:基于新型1,3-全氟二恶唑的聚合物在157nm光刻中用作软聚合物膜
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机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
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