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吴嘉丽; 李仁锋; 谭刚; 李红;
中国机械工程学会;
低压化学气相淀积; 多晶硅薄膜; 薄膜制备工艺; 硅烷;
机译:硼和磷注入的LPCVD多晶硅薄膜中晶粒和表面粗糙度的影响
机译:未掺杂的LPCVD多晶硅薄膜晶体管的漏电流
机译:通过LPCVD和钝化接触式太阳能电池应用的超薄掺杂多Si的开发通过LPCVD和外地管扩散
机译:RT-LPCVD和LPCVD多晶硅薄膜的物理性质:在发射太阳能电池中的应用
机译:LPCVD SiC薄膜的合成和表征。
机译:高度可复制的单层的连续增长本地开发的LPCVD装置在铜箔上沉积石墨烯
机译:表面处理对沉积LpCVD多晶硅薄膜晶粒度和表面粗糙度的影响
机译:拉伸LpCVD多晶硅薄膜中的六方相。
机译:LPCVD装置和使用LPCVD在晶片上制造多晶硅的方法
机译:多晶硅薄膜,多晶硅薄膜基板和多晶硅薄膜模具太阳能电池的生产方式
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