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陳正士; 徐華陽; 陳曉強; 馬闖;
中国真空学会;
上海市真空学会;
江苏省真空学会;
NiCr-CN膜层; 直流磁控溅射技术; 微观形貌; 材料性能;
机译:磁控氮化钛薄膜直流磁控辉光放电等离子体特性研究
机译:直流电的微观结构和性能发展的研究磁控共溅射三元氮化钛铝涂层-第II部分-磁控放电功率的影响
机译:直流磁控反应溅射沉积Ta / sub 2 / O / sub 5 /驻极体薄膜的结构和性能研究
机译:磁控共溅射沉积组成梯度锶锶镧锰矿薄膜的综合研究。
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:采用同步脉冲衬底偏压的混合高功率脉冲磁控/直流磁控共溅射制备Ti1-xalxN薄膜时金属与稀有气体离子辐照
机译:用于mEms应用的低应力alN压电薄膜的直流磁控反应溅射
机译:用较小的溅射阴极对大衬底上的薄膜磁控脉冲溅射直流磁控反应溅射的方法和装置
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