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李澤昌; 林仁輝;
中国力学学会;
预应变控制; 磁控溅镀法; 软性基板; TiO2薄膜; 机械性能;
机译:磁铜合金薄膜沉积过程中基板温度的影响通过磁控耦合对蓄电工艺
机译:基于Rgo-TiO2-Fe3O4纳米含量的无金属SERS基板:来自界面电荷转移和磁控性能的贡献
机译:O-2分压对磁控共溅射C改性TiO2薄膜结构和表面润湿性的影响
机译:无定形氢化硅的光谱描述薄膜用离子源接受磁控法接收的磁控法。
机译:磁控共溅射沉积组成梯度锶锶镧锰矿薄膜的综合研究。
机译:溶胶-凝胶法和磁控反应溅射制备Eu掺杂ZnO薄膜的结构性能与能量转移的相关性
机译:通过磁控共溅射工艺沉积的基板约束外延Ni-mn-Ga薄膜中的马氏体结构和孪晶
机译:用于mEms应用的低应力alN压电薄膜的直流磁控反应溅射
机译:挠性元件用基板,挠性元件用薄膜晶体管基板,挠性元件,薄膜元件用基板,薄膜元件,薄膜晶体管,薄膜元件用基板的制造方法,薄膜元件的制造方法以及制造方法薄膜晶体管
机译:使用较小的溅射阴极对大基板上的薄膜涂层进行脉冲直流磁控反应溅射的工艺和装置
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