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王俪蓉; 刘卫国;
中国真空学会;
氧化铜薄膜; 禁带宽度; 磁控溅射; 性能表征;
机译:O-2 / Ar流量比和沉积后退火对室温下射频溅射沉积SrTiO3薄膜的结构,光学和电学特性的影响
机译:使用射频磁控溅射沉积在柔性聚萘二甲酸乙二醇酯基板上的透明掺杂镓的氧化锌导电薄膜的晶体,光学和电学特性
机译:氢对溅射沉积Al_2O_3-掺杂ZnO薄膜光学和电学特性的影响
机译:沉积参数对RF溅射沉积CuO薄膜光学和结构性质的影响
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:由氧化物薄膜的溅射沉积条件确定的结构和光学特性
机译:O 2 inf> / Ar流量比和沉积后退火对室温下射频溅射沉积SrTiO 3 inf>薄膜的结构,光学和电学特性的影响
机译:溅射沉积Gaas薄膜的电学特性。
机译:通过脉冲激光沉积和溅射法制备P型CuO2透明导电氧化物薄膜的Cu2O-in2O3目标的制备
机译:利用溅射沉积法制造光学薄膜的方法和设备以及用该方法制造的薄膜
机译:利用溅射沉积方法制造光学薄膜的方法和装置以及用该方法制得的薄膜
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