机译:O-2 / Ar流量比和沉积后退火对室温下射频溅射沉积SrTiO3薄膜的结构,光学和电学特性的影响
Bilkent Univ, Natl Nanotechnol Res Ctr UNAM, TR-06800 Ankara, Turkey.;
Bilkent Univ, Inst Mat Sci & Nanotechnol, TR-06800 Ankara, Turkey.;
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Thin film; Strontium titanate (SrTiO3); RF magnetron sputtering; Optical properties; Electrical properties; Dielectric constant;
机译:在各种O-2 / Ar流量比下RF平面磁控溅射沉积的Gazo薄膜的光学性质
机译:在室温下通过直流溅射沉积并在空气或真空中退火的各种厚度的Al:ZnO薄膜的光学,电学和结构特征
机译:在Ar-N气体混合物RF溅射系统中沉积的氧氮化铝薄膜的光学,结构和电学特性
机译:沉积退火对RF溅射铪薄膜结构和电性能的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:射频磁控溅射沉积ZnS薄膜的结构和光学性质
机译:O