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POLYCARBOSILAZANE, AND COMPOSITION COMPRISING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING SILICON-CONTAINING FILM USING THE SAME

机译：聚碳硅烷氮烷和包含该聚碳硅烷氮烷的组合物，以及使用该聚碳硅烷氮烷制备含硅薄膜的方法

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摘要

To provide a new silicon-containing polymer making it possible to form a cured film has features that its residual stress is small and crack resistance is high. A polycarbosilazane having particular cyclic structures.

机译：本发明提供一种能够形成固化膜的新型含硅聚合物，其特征在于残余应力小且抗裂性高。一种具有特殊环状结构的聚碳硅氮烷。

著录项

公开/公告号WO2022084022A1

专利类型
公开/公告日2022-04-28

原文格式PDF
申请/专利权人 MERCK PATENT GMBH;
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申请/专利号WO2021EP77379
发明设计人 SUZUKI KATSUCHIKA;OKAMURA TOSHIYA;OKAYASU TETSUO;VOM STEIN THORSTEN;
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申请日2021-10-05
分类号C08G77/60;C09D183/16;
国家 EP
入库时间 2022-08-25 00:47:34

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