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SILICON PRECURSOR COMPOUND, COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM, COMPRISING SAME, AND METHOD FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM

机译:硅前体化合物,用于形成含硅膜的组合物,其包含相同的和形成含硅膜的方法

摘要

The present application relates to a silicon precursor compound, a method for preparing the silicon precursor compound, a precursor composition for forming a silicon-containing film, the precursor composition comprising the silicon precursor compound, and a method for forming a silicon-containing film using the precursor composition.
机译:本申请涉及硅前体化合物,制备硅前体化合物的方法,用于形成含硅膜的前体组合物,包含硅前体化合物的前体组合物,以及使用含硅膜的方法前体组合物。

著录项

  • 公开/公告号WO2021153986A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-08-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 UP CHEMICAL CO. LTD.;

    申请/专利号WO2021KR01084

  • 申请日2021-01-27

  • 分类号C23C16/455;C23C16/40;C23C16/34;C23C16/32;C07F7/10;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 20:22:55

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