首页> 外国专利> procedures for the purpose of flux of films by means of dielectric hochfrequenzerwaermung

procedures for the purpose of flux of films by means of dielectric hochfrequenzerwaermung

机译:介电膜通量薄膜通量的程序

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号DE1082686B

    专利类型

  • 公开/公告日1960-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 STANDARD ELEK K LORENZ AG;

    申请/专利号DE1949P044027

  • 发明设计人 HAUTEVILLE DIPL-ING TANKRED V;

    申请日1949-01-29

  • 分类号B29C65/00;B29C65/04;B29C65/74;F02M41/06;F02M59/46;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 19:21:43

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号