首页> 外国专利> Method of application of thin layers by thermal evaporation, on an element which is not subjected to thermal radiation, in particular for a microscope, as well as the device for implementing the method or a similar process

Method of application of thin layers by thermal evaporation, on an element which is not subjected to thermal radiation, in particular for a microscope, as well as the device for implementing the method or a similar process

机译:通过热蒸发在未经热辐射的元件上,特别是在显微镜上,施加薄层的方法,以及实施该方法或类似方法的装置

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号FR1343437A

    专利类型

  • 公开/公告日1963-11-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号FR19630921630

  • 申请日1963-01-16

  • 分类号C23C14/24;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-23 16:26:19

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