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Holder for half conductor body, which with a thermal process liquid or gaseous diffusion partners are subjected to

机译:半导体本体的支架,与热处理过程中的液体或气体扩散伙伴一起经受

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号DE1258700B

    专利类型

  • 公开/公告日1968-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 VEB HALBLEITERWERK FRANKFURT/ODER;

    申请/专利号DE1965V028702

  • 发明设计人 MISCHER DIPL.-ING. GUENTHER;

    申请日1965-06-18

  • 分类号C23C16/00;H01L21/00;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 13:24:53

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