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NITROGEN-DOPED BETA TANTALUM CAPACITOR

机译:掺氮的Beta钽电容器

摘要

A nitrogen-doped beta tantalum thin-film capacitor is disclosed. The thin-film capacitor comprises a thin-film electrode supported on a non-conductive substrate. Covering a selected area of the thin-film electrode is a dielectric film comprising an oxidation product of nitrogen-doped beta tantalum. Opposing the thin-film electrode and separated therefrom by the dielectric film is a counter electrode.
机译:公开了一种氮掺杂的β钽薄膜电容器。薄膜电容器包括支撑在非导电基板上的薄膜电极。覆盖薄膜电极的选定区域的是介电膜,该介电膜包括氮掺杂的β钽的氧化产物。对电极是与薄膜电极相对并被电介质膜隔开的对电极。

著录项

  • 公开/公告号FR2168065A1

    专利类型

  • 公开/公告日1973-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WESTERN ELECTRIC CY INCUS;

    申请/专利号FR19730001155

  • 发明设计人

    申请日1973-01-12

  • 分类号B01J17/36;H01L7/00;C23C15/00;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-23 06:40:50

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