首页> 外国专利> METHOD OF MANUFACTURING NEGATIVE TYPE PHOTOMASK BY WAY OF NEW LIFT OFF PROCESS

METHOD OF MANUFACTURING NEGATIVE TYPE PHOTOMASK BY WAY OF NEW LIFT OFF PROCESS

机译：新的升程工艺制造负型光电掩膜的方法

页面导航

著录项
相似文献

摘要

机译：

著录项

公开/公告号JPS5293274A

专利类型
公开/公告日1977-08-05

原文格式PDF
申请/专利权人 TOPPAN PRINTING CO LTD;
展开▼

申请/专利号JP19760009682
发明设计人 SUZUKI EIICHI;TERUNUMA HIROAKI;
展开▼

申请日1976-01-31
分类号G03F1/00;G03F1/68;G03F1/80;H01L21/027;H01L21/308;
国家 JP
入库时间 2022-08-23 01:04:49

相似文献

专利
外文文献
中文文献

获取专利

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号