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SEMICONDUCTOR FIELD EFFECT STRUCTURE OF THE METAL-INSULATOR-METAL OR METAL-INSULATOR-SEMICONDUCTOR TYPE, AND MEMORY DEVICE COMPRISING SUCH STRUCTURE
SEMICONDUCTOR FIELD EFFECT STRUCTURE OF THE METAL-INSULATOR-METAL OR METAL-INSULATOR-SEMICONDUCTOR TYPE, AND MEMORY DEVICE COMPRISING SUCH STRUCTURE
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机译:金属-绝缘体-金属或金属-绝缘体-半导电体类型的半导体场效应结构,以及包含这种结构的存储器
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Element de mémoire constitué par une structure semiconductrice effet de champ du type métal-isolant-semiconducteur à isolant successif (SIMIS) ou graduel (GIMIS) comportant une region de porte située entre des régions de drain et de source N++. L'isolant de la région de porte est constitué par une couche épaisse de SiO2 thermique recouverte de plusieurs couches minces de SiO2 ou Si3N4 pyrolytiques. Cette structure isolante a un intervalle de bande graduel permettant l'injection de trous ou d'électrons à partir de l'interface isolant-électrode@ de porte tout en bloquant l'injection d'electrons à partir de l'autre interface de l'isolant. Une couche de piégeage est réalisée dans la couche de SiO2 thermique pour capturer tous les trous ou électrons. Cette structure semi-conductrice est utilisée dans les systèmes de memoire de calculateur.
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