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Semiconductor device of silicon on sapphire structure having FETs with different thickness polycrystalline silicon films

机译:具有不同厚度的多晶硅膜的FET的蓝宝石硅结构的半导体器件

摘要

A semiconductor device has a plurality of field effect transistors on an insulating substrate. A semiconductor film constituting at least one of the plurality of field effect transistors is thinner than a semiconductor film of the other field effect transistor or transistors.
机译:半导体器件在绝缘基板上具有多个场效应晶体管。构成多个场效应晶体管中的至少一个的半导体膜比另一个场效应晶体管的半导体膜薄。

著录项

  • 公开/公告号US4395726A

    专利类型

  • 公开/公告日1983-07-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TOKYO SHIBAURA DENKI KABUSHIKI KAISHA;

    申请/专利号US19800134678

  • 发明设计人 KENJI MAEGUCHI;

    申请日1980-03-27

  • 分类号H01L27/02;H01L29/78;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 09:49:40

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