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METHOD AND APPARATUS FOR FORMING THIN FILM OXIDE LAYERS USING REACTIVE EVAPORATION TECHNIQUES

机译:利用反应蒸发技术形成薄膜氧化层的方法和装置

摘要

ABSTRACT OF THE DISCLOSUREApparatus and method for forming high quality thin filmoxide layers on a substrate by a reactive evaporationprocess utilizing an oxygen plasma activation source inthe form of a cylindrical boule of insulating materialsurrounded by a radio frequency coil for generatinga radio frequency electromagnetic field in the bouleof sufficient magnitude to create a self-igniting oxygenplasma within the boule without evaporating material fromthe walls thereof.
机译:披露摘要形成高质量薄膜的设备和方法通过反应蒸发在基板上形成氧化层利用氧等离子体活化源的过程圆柱状绝缘材料的形式被射频线圈包围以产生晶锭中的射频电磁场足以产生自燃氧气的量等离子体内的等离子体,而不会蒸发掉墙壁。

著录项

  • 公开/公告号CA1164407A

    专利类型

  • 公开/公告日1984-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OPTICAL COATING LABORATORY INC.;

    申请/专利号CA19810387313

  • 发明设计人 GUREV HAROLD S.;

    申请日1981-10-05

  • 分类号C23C15/00;

  • 国家 CA

  • 入库时间 2022-08-22 09:04:37

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