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FORMING THIN FILM OXIDE LAYERS USING REACTIVE EVAPORATION TECHNIQUES

机译:使用反应蒸发技术形成薄膜氧化层

摘要

The disclosure relates to an apparatus and method for forming high quality thin film oxide layers on a substrate by a reactive evaporation process utilizing an oxygen plasma activation source in the form of a cylindrical boule (17) of insulating material surrounded by a radio frequency coil (18) for generating a radio frequency electromagnetic field in the boule of sufficient magnitude to create a self-igniting oxygen plasma within the boule without evaporating material from the walls thereof.
机译:本公开涉及一种设备和方法,其通过利用氧等离子体活化源的反应性蒸发工艺在基板上形成高质量的薄膜氧化物层的设备和方法,所述氧等离子体活化源为被射频线圈( 18)在锭子中产生足够大的射频电磁场,以在锭子内产生自燃氧等离子体,而不会从锭子壁上蒸发材料。

著录项

  • 公开/公告号GB2085482B

    专利类型

  • 公开/公告日1985-03-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OPTICAL COATING LABORATORY INC;

    申请/专利号GB19810028764

  • 发明设计人

    申请日1980-09-23

  • 分类号C23C13/04;

  • 国家 GB

  • 入库时间 2022-08-22 07:55:25

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