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机译:紫外线或电子射线的投射箔和紫外线或电子射线的投射中国画法
公开/公告号JPS60199700A
专利类型
公开/公告日1985-10-09
原文格式PDF
申请/专利权人 NIHON SHIYASHIN INSATSU KK;
申请/专利号JP19840057537
发明设计人 HIGUCHI TOKUMASA;FUJII KENTAROU;
申请日1984-03-24
分类号G03F7/26;B44C1/16;B44C1/165;G03C1/00;G03C5/00;G03F7/004;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 08:25:31
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