首页> 外国专利> Process and apparatus for etching copper masked by a nickel-gold mask

Process and apparatus for etching copper masked by a nickel-gold mask

机译:蚀刻被镍金掩模掩蔽的铜的工艺和设备

摘要

Process and apparatus for anisotropically etching copper through a nickel-gold mask on a circuit board. An electrical connection is made between the copper and the reactor wall or another electrical conductor contacted by the etching solution. The copper is removed anisotropically, without undercutting or lateral etching of the copper beneath the nickel- gold mask.
机译:通过电路板上的镍金掩模各向异性蚀刻铜的工艺和装置。在铜和反应器壁或与蚀刻溶液接触的另一电导体之间建立电连接。各向异性地去除铜,而不会对镍金掩模下方的铜进行底切或侧向蚀刻。

著录项

  • 公开/公告号US4543153A

    专利类型

  • 公开/公告日1985-09-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PSI STAR;

    申请/专利号US19840611190

  • 发明设计人 NORVELL J. NELSON;

    申请日1984-05-17

  • 分类号C23F1/02;B44C1/22;C03C15/00;C03C25/06;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 07:51:56

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号