首页> 外国专利> Control of Si doping in GaAs, (Al,Ga)As and other compound semiconductors during MBE growth

Control of Si doping in GaAs, (Al,Ga)As and other compound semiconductors during MBE growth

机译:MBE生长期间GaAs,(Al,Ga)As和其他化合物半导体中Si掺杂的控制

摘要

A method of modulation doping GaAs, (Al,Ga)As and related compounds with silicon ions during molecular beam epitaxy (MBE) growth.
机译:一种在分子束外延(MBE)生长过程中用硅离子调制掺杂GaAs,(Al,Ga)As和相关化合物的方法。

著录项

  • 公开/公告号US4550031A

    专利类型

  • 公开/公告日1985-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HONEYWELL INC.;

    申请/专利号US19840674794

  • 发明设计人 JONATHAN K. ABROKWAH;

    申请日1984-11-26

  • 分类号B05D3/06;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 07:51:47

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号