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FET with Fermi level pinning between channel and heavily doped semiconductor gate

机译:在通道和重掺杂半导体栅极之间具有费米能级固定的FET

摘要

Herein disclosed is a semiconductor device in which control means for carriers migrating in a first semiconductor includes an interface state layer lying on the first semiconductor and a second conductor layer lying on the interface state layer. The interface state layer has its Fermi level pinned to that of the second semiconductor layer. By thus constructing an FET or the semiconductor device, an inversion or accumulation layer can be easily formed in the interface merely by applying a voltage to the control means.
机译:本文公开了一种半导体器件,其中用于载流子在第一半导体中迁移的控制装置包括位于第一半导体上的界面状态层和位于界面状态层上的第二导体层。界面状态层的费米能级固定到第二半导体层的费米能级。通过如此构造FET或半导体器件,仅通过向控制装置施加电压就可以容易地在界面中形成反转或累积层。

著录项

  • 公开/公告号US4698652A

    专利类型

  • 公开/公告日1987-10-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HITACHI LTD.;

    申请/专利号US19850731911

  • 申请日1985-05-08

  • 分类号H01L29/205;H01L29/80;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 07:08:36

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