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Photosensitive dissolution inhibitor, deep ultraviolet lithographic resist composition and method of use

机译：光敏溶解抑制剂，深紫外光刻抗蚀剂组合物和使用方法

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公开/公告号KR880005487A

专利类型
公开/公告日1988-06-29

原文格式PDF
申请/专利权人 프레데릭 디.램;
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申请/专利号KR19870010970
发明设计人 죠오지 슈바르즈코프;
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申请日1987-09-30
分类号G03C1/52;
国家 KR
入库时间 2022-08-22 06:54:20

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