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Method for fabricating a silicon pressure sensor incorporating silicon-on- insulator structures

机译:结合绝缘体上硅结构的硅压力传感器的制造方法

摘要

A method for fabricating an all silicon absolute pressure sensor employing silicon-on-insulator structures. More particularly, a method for fabricating an all silicon absolute pressure sensor based upon an ungated metal-oxide semiconductor field-effect transistor which offers a high degree of immunity to temperature effects, increased reliability, minimal substrate parasitics, reduced manufacturing variations from device to device, as well as inexpensive and simple fabrication.
机译:一种采用绝缘体上硅结构制造全硅绝对压力传感器的方法。更特别地,一种基于无栅金属氧化物半导体场效应晶体管的全硅绝对压力传感器的制造方法,该晶体管提供了对温度效应的高度抵抗力,更高的可靠性,最小的基板寄生效应,减少了器件之间的制造差异。 ,以及廉价和简单的制造方法。

著录项

  • 公开/公告号US5155061A

    专利类型

  • 公开/公告日1992-10-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ALLIED-SIGNAL INC.;

    申请/专利号US19910709543

  • 发明设计人 JOHN B. MCKITTERICK;JAMES M. OCONNOR;

    申请日1991-06-03

  • 分类号H01L21/18;H01L21/302;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 05:22:08

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