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机译:包括高压MOS场效应晶体管和低压MOS场效应晶体管的半导体器件
公开/公告号FI90599B
专利类型
公开/公告日1993-11-15
原文格式PDF
申请/专利权人 SHARP KABUSHIKI KAISHA;
申请/专利号FI19860000222
发明设计人 KAWANO KENZO;NAKAGAWA KIYOTOSHI;
申请日1986-01-17
分类号H01L27/085;H01L23/60;
国家 FI
入库时间 2022-08-22 04:46:13
机译: 包括高压MOS场效应晶体管和低压MOS场效应晶体管的半导体器件
机译: 半导体器件,肖特基势垒二极管,场效应晶体管,MIS场效应晶体管和MOS场效应晶体管
机译: 具有高压MOS晶体管和低压MOS晶体管的半导体器件的制造