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Method for microwave plasma assisted CVD diamond coating

机译:微波等离子体辅助CVD金刚石涂层的方法

摘要

The invention relates to a method for diamond coating of a large number of discrete components by Microwave Plasma Assisted CVD equipped with a bowl shaped substrate table. Its geometrical shape and configuration results in a more stable plasma, the shape and position of which conform well with the individual components. This reactor geometry also enhances the flow of the excited gas mixtures and therefore a large number of discrete components can be coated simultaneously even at high microwave power. IMAGE
机译:本发明涉及通过配有碗形衬底台的微波等离子体辅助CVD对大量离散成分进行金刚石涂覆的方法。它的几何形状和配置可产生更稳定的等离子体,其形状和位置与各个组件非常吻合。这种反应器的几何形状还增强了激发气体混合物的流动,因此即使在高微波功率下也可以同时涂覆大量离散成分。 <图像>

著录项

  • 公开/公告号EP0528778B1

    专利类型

  • 公开/公告日1995-10-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANDVIK AKTIEBOLAG;

    申请/专利号EP19920850194

  • 申请日1992-08-14

  • 分类号C23C16/26;C23C16/44;C23C16/54;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-22 04:13:34

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