具有垂直腔的激光发射组件,该组件通过表面以1.3到1.55μm的波长发射,包括一个具有两个反射镜(2、6)和一个或多个层(4)的叠层,两个反射镜反射发射波的长度介于这两个反射镜(2、6)之间,它们构成用于发射辐射的放大介质,其特征在于,这些反射镜中的至少一个(2)在放大介质(4)附近存在一层(2a) Alx Ga1-x As,x在0.8到1之间,在放大介质(4)的活动中心区域周围被选择性氧化(2ai和2aii)。
在该制造方法中,通过外延生长两个样品,一个在InP衬底上,另一个在GaAs衬底上,并且由此获得的两个样品通过外延键合组装。在第一样品的InP层上的第二样品的GaAs层中,如此获得的样品被蚀刻,然后通过水解氧化。 P>
公开/公告号FR2739230A1
专利类型
公开/公告日1997-03-28
原文格式PDF
申请/专利权人 JEAN LOUIS OUDAR;
申请/专利号FR19950011158
发明设计人 JEAN LOUIS OUDAR;
申请日1995-09-22
分类号H01S3/06;
国家 FR
入库时间 2022-08-22 03:12:13