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Low defect density gallium nitride epilayer and method of preparing the same

机译:低缺陷密度氮化镓外延层及其制备方法

摘要

A GaN epilayaer grown on a lattice mismatched saphire substrate is subjected to rapid thermal processing in order the reduce the defect density especially in the proximate the top (device) surface of the GaN epilayer.
机译:对晶格失配的蓝宝石衬底上生长的GaN外延层进行快速热处理,以降低缺陷密度,尤其是在GaN外延层的顶部(器件)表面附近。

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