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CVD/PVD/CVD/PVD fill process

机译:CVD / PVD ​​/ CVD / PVD填充工艺

摘要

A method is provided in which intermediate sized structures can be filled without forming voids during the fill process. The methods involve use of a sequence of CVD/PVD/CVD/PVD steps. The methods are especially effective for filling “intermediate” size features in damascene and dual damascene structures.
机译:提供了一种方法,其中可以填充中等尺寸的结构而在填充过程中不形成空隙。该方法包括使用一系列的CVD / PVD ​​/ CVD / PVD步骤。该方法对于填充“中级”特别有效。镶嵌和双镶嵌结构的尺寸特征。

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