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Method for obtaining an extreme ultraviolet radiation source radiation source and use in lithography

机译:获得极紫外辐射源辐射源的方法及其在光刻中的应用

摘要

The present invention relates to a method of using at least one solid target (28) that emits extreme ultraviolet radiation by interacting with a laser beam focused on a surface (30) of the target. The target can emit a portion of its extreme ultraviolet light from the opposite surface 37 and the portion is collected and delivered.
机译:本发明涉及一种使用至少一个固体靶(28)的方法,该固体靶通过与聚焦在靶表面(30)上的激光束相互作用而发出极紫外辐射。靶可以从相对表面37发射其极紫外光的一部分,并且该部分被收集和输送。

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