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High resistivity silicon wafer and method of producing same using the magnetic field Czochralski method

机译:高电阻率硅晶片及其使用磁场的直拉法制造方法

摘要

An improved method of obtaining a wafer exhibiting high resistivity while preventing the reduction of resistivity due to the generation of oxygen donors provided by: a) using the CZ method to grow a silicon single crystal ingot in the presence of a magnetic field, such crystal having a resistivity of 100 &OHgr;·cm or more and an initial interstitial oxygen concentration of 5 to 10 ppma and b) processing the ingot into a wafer.
机译:提供一种改进的方法,该方法可获得高电阻率的晶片,同时防止由于氧供体的产生而引起的电阻率的降低,该方法由以下方法提供:a)使用CZ方法在磁场存在下生长硅单晶锭,这种晶体具有电阻率为100 OHgr·cm或更高,初始间隙氧浓度为5至10 ppma,并且b)将晶锭加工成晶片。

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