首页> 外国专利> High voltage semiconductor device capable of increasing a switching speed

High voltage semiconductor device capable of increasing a switching speed

机译:能够提高开关速度的高压半导体器件

摘要

An IGBT has a punch-through structure including an n buffer layer. It includes a p low concentration layer formed between the n buffer layer and a p drain layer. Owing to the low concentration layer, the drain current decreases to zero gradually, not rapidly, when the IGBT is turned off.
机译:IGBT具有包括n 缓冲层的穿通结构。它包括在n 缓冲层和p 漏极层之间形成的p 低浓度层。由于低浓度层,当IGBT关断时,漏极电流逐渐而不是迅速减小至零。

著录项

  • 公开/公告号US6617641B2

    专利类型

  • 公开/公告日2003-09-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA;

    申请/专利号US20020059186

  • 发明设计人 AKIO NAKAGAWA;TOMOKO MATSUDAI;

    申请日2002-01-31

  • 分类号H01L297/60;H01L297/40;H01L311/11;H01L310/62;H01L311/13;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 00:04:29

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号