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Method of fabricating enhanced EPROM structures with accentuated hot electron generation regions

机译:具有增强的热电子产生区的增强型EPROM结构的制造方法

摘要

An EPROM structure includes a NMOS transistor integrated with a capacitor. The terminal names of the NMOS transistor follow the conventional nomenclature: drain, source, body and gate. The gate of the NMOS transistor is connected directly and exclusively to one of the capacitor plates. In this configuration, the gate is now referred to as the “floating gate”. The remaining side of the capacitor is referred to as the “control gate”.
机译:EPROM结构包括与电容器集成在一起的NMOS晶体管。 NMOS晶体管的端子名称遵循常规命名法:漏极,源极,主体和栅极。 NMOS晶体管的栅极直接且专有地连接到电容器板之一。在此配置中,该门现在称为“浮动门”。电容器的其余侧称为“控制门”。

著录项

  • 公开/公告号US6492225B1

    专利类型

  • 公开/公告日2002-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTERSIL AMERICAS INC.;

    申请/专利号US20010026346

  • 发明设计人 MICHAEL DAVID CHURCH;

    申请日2001-12-20

  • 分类号H01L218/242;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 00:04:29

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