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Photolithographic exposure unit for e.g. manufacturing DNA chips, scans target areas of biological material selectively with highly-focused flying spot illumination

机译:光刻曝光单元,例如制造DNA芯片,并通过高度聚焦的飞点照明选择性扫描生物材料的目标区域

摘要

Photolithographic exposure unit for manufacturing DNA chips comprising highly-focused light from a source controlled by a deflection- or positioning unit, directing the light spot onto each intended target location in a defined region, is new. An independent claim is included for photolithographic exposure of biological materials.
机译:新型的用于制造DNA芯片的光刻曝光单元是新的,该芯片包括来自由偏转或定位单元控制的光源的高度聚焦的光,该光将光斑定向到定义区域中的每个预期目标位置上。包括对生物材料进行光刻曝光的独立权利要求。

著录项

  • 公开/公告号DE20023055U1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-01-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EPIGENOMICS AG;

    申请/专利号DE2000223055U

  • 发明设计人

    申请日2000-05-23

  • 分类号G03F7/20;C12M1/42;C12Q1/02;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 23:41:49

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