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Pattern divided method of mask for copying and mask for copying, and production method of mask for copying

机译:复印用掩模和复印用掩模的图案分割方法以及复印用掩模的制造方法

摘要

Being the mask for copying in order to copy copying pattern to the suffering copying baseplate making use of the energy beam, forming opening pattern in the thin film section which is supported in the support framework section, when copying pattern, it is the cover pattern where at least one place is connected to the periphery in the pattern in the mask for copying which becomes, the surface area of the copying mask upper pattern surface/ratio of the cross-sectional area of the part where the support section it has done, divides develops the cover pattern part which is larger than 5000.
机译:为了利用能量束将复制图案复制到患病复制基板上而用于复制的掩模,在支撑框架部所支撑的薄膜部中形成开口图案,在复制图案时,是覆盖图案。至少一个位置连接到用于复制的掩模中的图案的外围,该复制的掩模的上表面的表面积/已完成支撑部分的部分的横截面积之比变为复制掩模的上图案表面的表面积开发大于5000的封面图案部分。

著录项

  • 公开/公告号JPWO2002021582A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HOYA株式会社;

    申请/专利号JP20020525905

  • 发明设计人 雨宮 勲;

    申请日2001-09-04

  • 分类号H01L21/027;G03F1/16;G03F7/20;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 23:25:00

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