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Negative differential resistance (NDR) elements and memory device using the same

机译:负差分电阻(NDR)元件和使用该元件的存储设备

摘要

A two terminal, silicon based negative differential resistance (NDR) element is disclosed, to effectuate a type of NDR diode for selected applications. The two terminal device is based on a three terminal NDR-capable FET which has a modified channel doping profile, and in which the gate is tied to the drain. This device can be integrated through conventional CMOS processing with other NDR and non-NDR elements, including NDR capable FETs. A memory cell using such NDR two terminal element and an NDR three terminal is also disclosed.
机译:公开了一种基于硅的两个端子的负差分电阻(NDR)元件,以实现用于所选应用的一种NDR二极管。两端子设备基于具有NDR功能的三端子FET,该FET具有修改后的沟道掺杂分布,并且栅极与漏极相连。该器件可通过常规CMOS处理与其他NDR和非NDR元件(包括具有NDR的FET)集成在一起。还公开了使用这种NDR两个端子元件和NDR三个端子的存储单元。

著录项

  • 公开/公告号US6795337B2

    专利类型

  • 公开/公告日2004-09-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PROGRESSANT TECHNOLOGIES INC.;

    申请/专利号US20020185568

  • 发明设计人 TSU-JAE KING;

    申请日2002-06-28

  • 分类号G11C110/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:18:37

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