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Calibration artifact and method of using the same

机译:校准伪影及其使用方法

摘要

A calibration artifact and a method of calibrating a machine vision measurement system. The calibration artifact includes a substrate and a number of concentric rings on one surface of the substrate. Each ring is of a different pre-defined size. The change in the size of any two adjacent rings is different than the change in size of any other two adjacent rings.
机译:校准工件和校准机器视觉测量系统的方法。校准工件包括衬底和在衬底的一个表面上的多个同心环。每个环具有不同的预定义大小。任何两个相邻环的尺寸变化不同于任何其他两个相邻环的尺寸变化。

著录项

  • 公开/公告号US6704102B2

    专利类型

  • 公开/公告日2004-03-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 METRONICS INC.;

    申请/专利号US20010777529

  • 发明设计人 RICHARD ROELKE;

    申请日2001-02-06

  • 分类号G01N210/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:12:42

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